ALD6L-FFR4-4-CF3 ALD-Membranventil, Edelstahl, 1/4" Faceseal female drehbar, 10 bar max., pneumatisc

ALD-36L-FFR4-CF3
ALD6L-FFR4-4-CF3 ALD-Membranventil, Edelstahl, 1/4" Faceseal female drehbar, 10 bar max., pneumatisc
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Material: Edelstahl 1.4404 / SS 316L
Anschlusstyp 1: Face Seal
Anschlussgröße 1: 1/4 "
Anschlusstyp 2: Face Seal
Anschlussgröße 2: 1/4 "
Ventilart: Standard
Maximaler Druck: 10 bar / 145 psi
Maximale Temperatur: 120 °C
Durchflusskoeffizient (Cv): 0.27
pneumatischer Antriebsdruck: 4, 2 ~ 6,2 bar (60 ~ 90 psig)
Bauweise: Geschlossen
Reinigung: F3 - ultrahochreiner Prozess (FC-03)
Alle Angaben verstehen sich als unverbindliche Richtwerte! Für nicht schriftlich bestätigte Daten übernehmen wir keine Haftung.
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Produktinformationen


Überblick:

Atomic Layer Deposition (ALD) ist ein Verfahren zum Aufbringen von dünnen Schichten auf verschiedene Substrate mit atomarer Präzision. Da die Abmessungen der Chipknoten kontinuierlich schrumpfen, stoßen herkömmliche Abscheidetechniken an ihre Grenzen. 

Die Abscheidung ultradünner Schichten im Nanobereich erfordert die Atomic Layer Deposition (ALD)-Technologie, die es ermöglicht, Materialien jeweils atomarschichtig abzuscheiden. Membranventile der ALD-Serie werden verwendet, um während des Abscheidungsprozesses zur Herstellung von Halbleiterchips hochpräzise Gasdosen zu liefern.

 


Eigenschaften:

  • Ultrahohe Zyklenlebensdauer mit High-Speed-Betätigung
  • Schnelle Reaktion mit Ventilöffnungs- oder -schließzeit von weniger als 5 ms
  • Thermischer Aktuator verlängert die Lebensdauer in Anwendungen, bei denen der Körper erhitzt wird
  • Geschlossener Sitz für hervorragende Quell- und Schmutzbeständigkeit
  • Elgiloy-Membran für hohe Festigkeit und Korrosionsbeständigkeit für eine lange Lebensdauer
  • Sitz aus hochreinem PFA mit breitem Spektrum an chemischer Verträglichkeit
  • Minimale Partikelerzeugung und Totraum erleichtern das Spülen
  • Ventile mit induktiven Sensoren, Magnetventilbaugruppen, Heizpatronen und Thermoelementbohrungen sind erhältlich

 

Technsiche Daten: 

 ALD-3ALD-6
Durchflusscoefiizent (Cv) 0,27 0,62
Material 316L SS/ASTM A479
316L VAR/SEMI F20
316L VIM-VAR /SEMI F20
Max. Betriebsdruck Vakuum bis 145 psig (10 bar)
pneum. Antriebsdruck 60 ~ 90 psig (4.2 ~ 6.2 bar)
Temperatur Standard Ausführung: 32 ~ 248° F (0~120 °C)
Thermale Ausführung: 32 ~ 392 F (0 ~ 200 C)
Öffnungsgröße 0,16 in. (4.1 mm) 0,24 in. (6 mm)
benetzte Oberflächenrauheit 5 Ra µin. (0,13 µm)
Polierprozess elektropoliert
Helium-Leckrate ≤ 1 x 10-9 mbar l/s (intern & extern)



Anwendungsbereiche:

Geeignet für Atomic Layer Deposition (ALD)-Prozesse in den folgenden Halbleiterbereichen

  • High-K-Dielektrika und Metallgate
  • MEMS
  • Optoelektronische Materialien und Geräte
  • Diffusionsbarriere für integrierte Schaltkreis-Verbindungsleitungen
  • Flachbildschirm (organisches Leuchtdiodenmaterial, OLED)
  • Optisches Element
  • Solarzelle
  • Verschiedene Folientypen (<100 nm)

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